河南金属硅细粉是集成电路、电子元件必不可少的原材料,然而,要是硅粉中含有太多的磷杂质,则做不了半导体器件了。那么,我们应如何去除硅粉中的磷杂质呢?对于这一问题,国兴冶金耐材有限公司为我们做出了解答,下面我们一起来了解一下。
1.将河南金属硅粉置于感应炉中,并通入氮气,使其在1460~1500℃下熔化;
2.将体积比为1.2:1~1:1.5的二氧化硅和碳酸锂置于另一个坩埚中,在1440~1460℃下熔化;
3.将熔化好的二氧化硅-碳酸锂混合物直接倒入熔化的硅液中,30分钟后停炉;
4.待冷却后,硅与渣会自然分离,得到破碎硅;
5.将得到的破碎硅用1:6的HF酸与HCl浸泡15~30小时,清除破碎硅中的磷与河南其他金属杂质;
6.将得到的硅进行重熔和定向凝固。
以上就是去除硅粉中的磷杂质的方法,在以后的工作中金属硅细粉中含有磷等杂质时,我们可采用上述方法将其去除,进而提高硅粉的纯度,使其在集成电路,电子元件等领域发挥******作用。想了解更多关于这方面的信息请多多关注我们的网站,或者您也可以直接致电我们,我们会竭诚为您服务。